VitaFlon™ETFE 薄膜是使用 ETFE 树脂(乙烯-四氟乙烯共聚物)制作的热熔融挤出流延薄膜,ETFE 薄膜提供所有氟元素薄膜的优良性能是半导体和集成电路的薄膜辅助成型(FAM)过程中发挥缓冲/释放功能的首选材料。
产品详情
ETFE 薄膜在半导体和集成电路的优势
长期稳定工作温度范围-240°C~ 205°C
最高温度可到 260°C
卓越的不粘性和低表面摩擦性能
极佳的介电性能
卓越的透明度和透光率
高抗污自清洁功能
耐化学腐蚀
无任何塑化剂、添加剂和其他材料
ETFE 薄膜减少了从模具中去除模制集成电路所需的释放力,并在成型后提供无皱表面
宽泛的波频范围和温度范围内有卓越的电性能。
ETFE 薄膜的面积产率比 FEP、PFA 和 PTFE 高20%
ETFE 薄膜分类
ETFE HP 系列(超纯级)
用 100%高纯等级的ETFE 树脂制作的
常被用于介电性能要求高或光学透明要求的应用
具有高光线透过、透明和长期耐老化的独特组合特性
可制作高透、单面磨砂和双面磨砂
ETFE 薄膜应用与市场
电子绝缘材料
LED封装
半导体设备防护
晶圆和芯片封装
ETFE 薄膜规格
厚度范围 12μm~500μm
标准宽度: 最大到 1600mm
可以按客户要求分切成任何宽度
可粘接表面:等离子处理和化学刻蚀处理
产品参数
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ETFE HPY
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ETFE HPX
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基本性能
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单位
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测试方法
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比重
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ASTM D792
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1.74
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1.74
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阻燃性能
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UL-94
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V-0
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V-0
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吸水率
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%
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<0.03
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<0.03
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力学性能
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拉伸强度
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MPa
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ASTM D882
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44
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48
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断裂伸长率
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%
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ASTM D882
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300
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350
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拉伸模量
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MPa
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ASTM D882
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965
|
965
|
|
初始撕裂强度(0.05mm)
|
g
|
ASTM D1004
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500
|
525
|
|
延伸撕裂强度(0.05mm)
|
g
|
ASTM D1922
|
75
|
75
|
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热学性能
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|||||
长期稳定工作温度
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℃
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UL-746-B
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165
|
165
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熔点
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℃
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ASTM D3418
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260
|
260
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光学性能
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太阳光透过率
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%
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ASTM E424
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>90
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>92
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产品尺寸
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宽度
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mm
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25mm-1600mm
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厚度
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μm
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12.7μm -500μm
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标准颜色
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透明/磨砂
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可用的表面处理方式
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化学处理/等离子处理
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公司凭借十几年的行业管理、科研经验,专注于碳纤维、氟、硅、系列浸渍制品的研发、生产、销售